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　　小分子材料使用真空蒸鍍法成膜，而真空蒸鍍法又分為電阻加熱蒸鍍法、電子束蒸鍍法等。

　　電阻加熱蒸鍍法是在真空蒸鍍機(jī)中放入盛有有機(jī)物的坩堝，通過(guò)對(duì)其內(nèi)部的電阻絲通電加熱，使有機(jī)材料蒸發(fā)或氣化，然后像固定的基板附著并最終成膜。

　　電子束蒸鍍法是利用電子束照射下的非常強(qiáng)的能量，使靶材加熱升華或者蒸發(fā)，這是一種結(jié)構(gòu)非常堅(jiān)固的方法。

　　需要注意的是，作為靶材的材料，如果是金屬或者是氧化物，在電子束照射下材料的性質(zhì)不發(fā)生改變，若使用這種方法蒸鍍的有機(jī)材料由于電子束的能量過(guò)大，會(huì)導(dǎo)致有機(jī)物自身分解，因此對(duì)于OLED器件來(lái)說(shuō)，有機(jī)物層的蒸鍍幾乎都使用電阻加熱蒸鍍。

　　真空蒸鍍存在哪些問(wèn)題呢？

　　真空蒸鍍是一個(gè)非常好的制備薄膜的技術(shù)，但是它也存在著一些問(wèn)題。

　　1、OLED器件中的有機(jī)膜的厚度大約為100-200nm，由于是制備非常薄的膜，所以要求薄膜針孔無(wú)缺陷均一性好，但這非常困難，尤其是在基板的尺寸有變化時(shí)。

　　2、蒸鍍?cè)粗械挠袡C(jī)物的加熱控制技術(shù)非常難，與金屬、無(wú)機(jī)物相比，有機(jī)物的熱導(dǎo)率非常低。

　　舉個(gè)例子：如果將有機(jī)物放入較大的坩堝時(shí)，充料的時(shí)間間隔比較長(zhǎng)，如果長(zhǎng)時(shí)間使用坩堝，而其中又放入很多的材料，那么加熱將集中在坩堝的壁上，內(nèi)部的熱擴(kuò)散較難，不利于蒸發(fā)。

　　補(bǔ)充一下：

　　為了較好的使坩堝中的材料發(fā)揮出來(lái)，必須認(rèn)真設(shè)計(jì)坩堝，這可是一個(gè)小秘訣，但這個(gè)秘訣你從設(shè)備企業(yè)是得不到反饋的，所以說(shuō)即使你購(gòu)買同一家設(shè)備商的同一臺(tái)設(shè)備，也可能會(huì)因?yàn)檑釄逶O(shè)計(jì)的不同導(dǎo)致做制造的終端樣品也不一樣。

　　蒸鍍?cè)捶湃脎釄彘_(kāi)始蒸發(fā)時(shí)，材料會(huì)以類似于煙霧和氣體的形態(tài)發(fā)揮，這種情況下，如果基板保持原位就不能制備出非常均一的薄膜，這會(huì)導(dǎo)致什么？又該怎么破？

　　有機(jī)膜的厚度達(dá)到最適合的膜厚時(shí)效果最好，厚度變化，器件的性能就會(huì)發(fā)生變化，那么這就意味著產(chǎn)品的成品率下降，為了解決這個(gè)問(wèn)題，蒸鍍?cè)丛谡舭l(fā)的時(shí)候，可以把蒸鍍?cè)磁c基板中心偏離，并將防止基板的固定臺(tái)旋轉(zhuǎn)，以達(dá)到整體的膜厚均一化。另外也可通過(guò)改變蒸鍍?cè)磁c基板之間的距離的方法維持膜厚。