臺(tái)積電連曝7/5/3nm工藝:不想離開臺(tái)灣
摘要:Intel這批老馬走的有些遲緩,臺(tái)積電和三星電子卻在新工藝上大發(fā)神威。三星此前已經(jīng)集中披露了8/7/6/5/4nm的長遠(yuǎn)規(guī)劃,臺(tái)積電也在7/5/3nm上持續(xù)投入。 臺(tái)積電計(jì)劃2018年就量產(chǎn)7nm工藝,2019年再投產(chǎn)改進(jìn)版本,首次使用EUV極紫外光刻技術(shù)。三星也會(huì)在7nm上首次
閱讀:9182017年06月13日 11:31:23
